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原位光催化芯片
高分辨原位光催化反应系统是在标准样品台上搭建光源工作站和光谱分析仪，能够在透射电镜内实现光照、光谱分析及液体环境的埃米级高分辨成像，光源工作站和光谱分析仪可根据客户的需求定制。此外，用户还可以选择电学模块和加热模块，实现光、电、热三外场耦合反应。
独特优势：
1.皮米级分辨率
a.超薄夹层（100-500nm）
b.超薄氮化硅膜（可达10nm）
c.气体环境可实现皮米级分辨，液体环境可实现埃米级分辨
2.系统使用体系广
a.光源波长：紫外-可见-近红外
b.功率选择：太阳光系列，脉冲激光系列
3.操作便捷
a.光源系统与反应样品台一体化程度高，连接便捷
b.光源系统波段、功率可自动化企业产品免费信息发布平台控制
高分辨原位光催化反应系统技术参数：
温度范围：
RT
窗口膜厚：
10nm,25nm,50nm
电流范围：
±10pA~±250mA
电极数量：
3
(HR)EDS/EELS：
|
漂移率：
<0.5nm/min
适用电镜：
FEI,JEOL,Hitachi
适合样品：
静态，流体，固体
液体池厚度：
100~500nm
**大电压：
±50V
(HR)TEM/STEM：
|
b2b平台性：
**
倾转角：
静态α=±25°，流体α=±20°
适用极靴：
ST,XT,T,BioT,HRP,HTP,CRP
光源波长：
紫外-可见-红外
功率：
太阳光系列、脉冲激光系列
应用领域：
1.化学领域
光催化反应
光聚合反应
光致诱导组装
spr效应的表面结构
2.材料科学领域
光敏材料的光响应行为
太阳能电池
光合作用
系统组成图：
a.原位光催化样品台(原位光催化系统)
原位光电耦合样品台(原位光电耦合系统)
b.光源控制系统
c.入射光导入光路系统
d.光纤接口及大功率集成
e.芯片环境制样舱(带泵)
f.高真空检漏仪
g.电化学工作站(原位光电耦合系统)
h.原位光催化&光电芯片(10盒，标配25nm)
i.附件包
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http://www.chip-nova.com.cn/SonList-1688743.html
原位光催化芯片